以下是引用123123abc在2005-11-29 22:21:47的发言：大家好! 最近图象转移的曝光部分出现如下情况: 申请一套底片,刚开始做300PNL左右没有问题,300以后出现板子曝光后有孔偏现象,我刚开始认为是底片或板子涨缩,但想想曝光机(ONOSOKKI全自动曝光机)控制温度和湿度都是恒定的,应该没有这种可能/而且这种情况并不是每个料号都有. 请大家指点,能给我个满意的答案. 个人认为是底片的问题，有可能的原因是： 1）底片冲洗后静置时间不足就用于曝光，在使用过程中，底片逐渐适应于曝光房的温湿度而发生尺寸变化，变化大的有+/-1mils。 2）底片曝光过于频繁。在曝光的过程中，底片吸收光能而缩水（即湿度降低），尺寸会变小。如果频繁曝光，底片来不及恢复而再次收缩，最终会引起较大的变化，当连续曝光100次后，30cm的底片会缩小约20um。因此，建议曝光时，准备几套底片轮流使用，以便底片缩水后能充分吸湿恢复（因为底片对湿度的适应时间较长）。有朋友提及曝光会使底片温度升高，引起尺寸变大。实际上，在环境管控理想的条件下，这点变化是非常小的（因为底片对温度的适应时间很短）。 另外，如何控制好底片尺寸呢？这是使用者最头痛的问题。本人给点小小看法： 首先确保光绘房、曝光房的温湿度一致。其次，当场所变更有温湿度变化时，请静置底片至8小时以上，保证底片适应完全。再者就是曝光频率控制，多准备几套底片。另外，为了更好的控制尺寸（主要是对位），请收集数据推算出生产过程的变化量，以便在制前设计给予预处理。 | 
发表于 2006-7-7 14:12:20