PCB论坛网

 找回密码
 注册
查看: 1126|回复: 3

plasma等离子处理应用工艺

[复制链接]
发表于 2010-6-28 11:22:33 | 显示全部楼层 |阅读模式
Plasma等离子处理工艺简介
1、多层柔性板除胶渣、软硬结合板除胶渣、FR-4高厚径比微孔除胶渣(Desmear):提高孔壁与镀铜层结合力,除胶渣彻底,提高通断可靠性,防止内层镀铜后开路。
         
2、PTFE(铁氟龙)高频微波板沉铜前的孔壁表面改性活化(Modification):提高孔壁与镀铜层结合力,杜绝出现黑孔,爆孔等现象。阻焊与字符前板面活化:有效防止阻焊字符脱落。
3、HDI板laser之通孔、盲/埋孔去除激光(Laser)灼烧之碳化物。不受孔径大小之要求,孔径小于50微米之微孔效果更明显(Micro-via  hole,IVH,BVH)。
   
4、精细线条制作时去除干膜残余物(去除夹膜)。
            
5、软硬结合板叠层压合前PI表面粗化,柔性板补强前PI表面粗化:拉力值可增大10倍以上。

6、化学沉金/电镀金前手指、焊盘表面清洁:去除阻焊油墨等异物,提高密着性和信赖性,一些较大型柔性板厂已经用等离子取代传统磨板机(沉金镀金前磨板被等离子清洁取代)。
7、化学沉金/电镀金后,SMT前焊盘表面清洁(Cleaning):可焊性改良,杜绝虚焊、上锡不良,提高强度和信赖性。

8、PCB板BGA封装前表面清洗,打金线Wire&Die Bonding前处理,EMC封装前处理:提高布线/连线强度和信赖性。(去除阻焊油墨等残余物)
     
9、LCD领域:模组板去除金手指氧化和压合保护膜过程中之溢胶等污染物,偏光片贴合前表面清洁。
     
10、IC半导体领域:半导体抛光晶片(Wafer):去除氧化膜,有机物;COB/COG/COF/ACF等工艺中微观污染物清洁,提高密着性和可靠性。
11、LED领域:打线Wire前焊盘表面清洁,去除有机物。

12、塑料、玻璃、陶瓷与聚丙烯与PTFE一样是没有极性的,因此这些材料在印刷、粘合、涂覆前可以进行等离子处理。同样,玻璃和陶瓷表面的轻微金属污染也可以用等离子方法清洁。 硅胶类按键、连接器,聚合体表面改质:提高印刷和涂层的信赖性




       地址:深圳宝安区              电话:13530051205胡
回复

使用道具 举报

发表于 2010-6-29 13:14:40 | 显示全部楼层
学习学习...谢谢楼主的分享.
回复 支持 反对

使用道具 举报

发表于 2010-6-29 21:38:34 | 显示全部楼层
有沒有Plasma板中央和旁邊均勻性一樣的對策,公司用了好多台,都不是很好<ps不要跟我講一次作一片板子喲
回复 支持 反对

使用道具 举报

 楼主| 发表于 2010-7-1 10:12:52 | 显示全部楼层
PLASMA等离子体在真空腔里是无处不在的,不管你是放在旁边或是中间,都是一样的,只要不是放得太满让它有放电的空间就行,能不能请问下贵公司是哪一家?用的哪里的等离子
回复 支持 反对

使用道具 举报

您需要登录后才可以回帖 登录 | 注册

本版积分规则

Archiver|小黑屋|手机版|PCB设计论坛|EDA论坛|PCB论坛网 ( 沪ICP备05006956号-1 )

GMT+8, 2025-5-20 07:40 , Processed in 0.131033 second(s), 19 queries .

Powered by Discuz! X3.4

© 2001-2023 Discuz! Team.

快速回复 返回顶部 返回列表