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讨论:PCB电镀正片流程和负片

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发表于 2014-1-15 09:12:42 | 显示全部楼层 |阅读模式
请问这两个流程有啥优缺点啊?目前我接触的感觉老厂和小厂的正流程的较多。

  个人觉得:1.负流程流程简单,费铜,孔环需要做大。
                    2.正流程复杂,孔环可以小。

想知道:1.两个流程的制程能力有啥区别。比如:孔铜,面铜厚度。线宽线距。
               2.两个流程的品质。
               3.两个流程的价格,觉得这可能是厂家选择这个的主要考虑点。

还有在电镀中,有种水平电镀和垂直电镀,这两种是个什么情况,有啥区别?

我也很混乱的,之前接触的都是负片流程,请大家一块讨论下!
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发表于 2014-1-19 17:36:30 | 显示全部楼层
负片流程即须一次性将铜电镀足够,流程短,整个板面的铜厚均匀性好,需要酸性蚀刻,但因为是电镀铜厚足够再做线路,因为底铜厚,不适合于做精细线路;
正片流程就需做加成法电镀,走的图形电镀流程,流程长,因为受图形分布的影响,板面的铜厚可能会分布不均匀但因为是加成法电镀,需要碱性时刻,因为底铜箔,反而适合于作精细线路;
具体选择视工厂的产品类型而定,
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