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建议采用基材铜薄的板,原后二次铜镀到客户要求的厚度,这样就可以很好的控制均匀性了。要不改用沉厚铜也行。
电镀渡铜均匀性保持在80%以上,蚀刻机均匀性在85%以上做什么板就都不会有问题。我认为电镀渡铜均匀更时关键,因为那更难控制,而蚀刻机均匀时很容易调整的。至于电镀渡铜均匀性达不到,那就只好补偿线径了。
同意以上观点,控制电镀均匀性!
改善电镀均匀性,另蚀刻做好压力调整
蚀刻均匀性达到85%以上基本自身制程已经ok.其他应考虑的因素为:
1.蚀刻侧蚀大小(跟设备,药水,参数关系很大).
2.镀铜均匀性状况,R值控制在0.4以内ok.
3.阻抗排版设计.(可以改在板边设计).
阻抗主要受其以下因素影响及权重.
介质厚度:影响度:l=2.04
面铜厚度:影响度:l=0.17
外层线宽:影响度l=0.54
以上:供参考.
蚀刻均匀性计算方式:
=3*(标准差/平均值)*100%.
其他公司还有1倍标准差计算,这样计算蚀刻均匀性会好一些.
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