铜颗粒！！！请大家看图后谈谈PTH制程中的碳/氧/硅元素来之哪里?

CWB · 发表于 2006-2-17 08:10:22

是鈀缸中本來就有SN離子的﹐你們還是多多學習

张光华 · 发表于 2006-2-20 10:19:39

C和O来自胶渣 SI来自钻头的磨损！ SI肯定是非常微量的。但不可避免。其实，如果不是激光钻孔，都会有SI的存在。就看你去钻污的工序处理得怎么样了！这SI元素用F可以去掉的

handinhand · 发表于 2006-2-20 22:39:02

22楼的想法很有研究

再想请教22楼两个问题：

一、激光钻孔成本高吗？

二、F元素可以加在哪道工序中进行去SI处理？

先谢了…………………………………………

讨论讨论先……………………………………

handinhand · 发表于 2006-2-20 22:40:45

能不能这样考虑：

将胶渣除了，也就能把SI除了？

[此贴子已经被作者于2006-2-20 22:45:07编辑过]

张光华 · 发表于 2006-2-28 16:02:44

QUOTE:

以下是引用handinhand在2006-2-20 22:39:02的发言：

22楼的想法很有研究

再想请教22楼两个问题：

一、激光钻孔成本高吗？

二、F元素可以加在哪道工序中进行去SI处理？

先谢了…………………………………………

讨论讨论先……………………………………

激光钻机要五六百万一台，成本高不高要看你公司实力说话。

SI元素可以在钻孔后用PLASMA（工艺气体O2+CF4)就可以去除掉。我是搞PLASMA（等离子）处理系统的，你别认为我是搞推销就成。你可以联系我们公司深圳办事处，带上你的板去他们那里做，做完后一测试你就知道了

南京世锋科技深圳办事处

地址：深圳市福永镇福园一路高新工业区北方骏亿工业园A8栋一层

电话：0755－61501126

传真：0755－61501911

lssac · 发表于 2006-2-28 16:07:24

顶顶

[em02]

张光华 · 发表于 2006-2-28 16:42:01

QUOTE:

以下是引用handinhand在2006-2-20 22:40:45的发言：

能不能这样考虑：

将胶渣除了，也就能把SI除了？

胶渣的概念看你如何定义了我想表达的是：SI的去除是很难的。现在工业上对玻璃（SIO2)的蚀刻用氢氟酸（HF)才能办到。之所以PLASMA除胶渣要用CF4作为工艺气体，就是这个原因。

clcyt · 发表于 2006-3-1 16:23:47

一.先确认抛光粉成分,是否含有硅.

二.因做EDX分析只是分析样品很微小的部分,材质所含各成分可能分部不均匀,建议对样品多点多做几次EDX分析,对PI和胶层也是如此.

liubo0026 · 发表于 2006-3-1 21:05:29

你们用那家材料他们采用那家公司的AD呢？

张光华 · 发表于 2006-3-2 11:04:02

楼主消失了？

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