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楼主: syvon

Desmear+PTH+Plating或直接电镀专贴

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发表于 2007-7-24 22:58:00 | 显示全部楼层
QUOTE:
以下是引用hwh6159在2007-1-4 23:00:00的发言:

请教:如何改善High Tg板料Pullaway的问题?

可以试试罗门哈斯的3303 Sweller
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发表于 2007-8-10 20:58:00 | 显示全部楼层
QUOTE:
以下是引用yj02110553在2007-5-28 16:55:00的发言:

初次开缸使用他们的药水吗?我直前也有用到过,并此问题有询问过罗门哈斯的客服工程师.

具他们介绍,前几次的用量会相对比较大,因为我们的阳极均为新阳极,阳极膜初成,阳极内含有光泽剂的量不到饱和状态,所以不管你是停产还是连续生产你的用量都会较后续要大.当阳极饱和后用量就会下降并稳定.

我也请教过,回答如出一辙

事实却未必如此

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发表于 2007-8-13 02:22:00 | 显示全部楼层
有做黑孔的?[em05]
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发表于 2007-8-13 11:20:00 | 显示全部楼层

怎么没有关于填孔(埋孔)方面的讨论,具我所知,目前世界领先的PCB(刚性板)主要针对填孔技术和阻抗,对镀铜要求很高,一般垂直线是达不到要求的。

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发表于 2007-8-13 23:47:00 | 显示全部楼层

一铜铜粉如何产生及解决

一铜铜粉产生及解决办法?

铜粒 氯离子 硫酸铜 光剂等成份正常

跪求方法

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发表于 2007-9-5 12:55:00 | 显示全部楼层
QUOTE:
以下是引用kuhn在2007-7-24 22:58:00的发言:

可以试试罗门哈斯的3303 Sweller

罗门哈斯有专门配合高Tg材料的去钻污药水,其中溶胀就是用3303,去钻污用213A(高锰酸钠体系),但是从反应后的SEM图像来分析,也完全不能形成蜂窝状的结构,而且成本比211+高锰酸钾的体系至少在5倍左右,实际上很多厂家都会使用高锰酸钾药水进行加工

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发表于 2007-9-5 12:58:00 | 显示全部楼层
QUOTE:
以下是引用guygong在2007-8-13 23:47:00的发言:

一铜铜粉如何产生及解决

一铜铜粉产生及解决办法?

铜粒 氯离子 硫酸铜 光剂等成份正常

跪求方法

不要把思维固定在一铜的电镀,实际上沉铜层本身的结构很值得怀疑,总之,大部分的原因还是在于电镀前就出问题了。

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发表于 2007-9-9 15:07:00 | 显示全部楼层

呵呵,我现在的这家公司就是用EP1000电镀光剂做厚背板

盲孔是不怎摸样?

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发表于 2007-9-13 22:39:00 | 显示全部楼层

好的

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发表于 2007-9-28 00:37:00 | 显示全部楼层

各位:

黑孔后铜面颜色不一致,

有水纹印,

表面有碳粉,

是咋回事?????

[em05][em05]
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