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楼主: syvon

实验手法(DOE、、、)

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发表于 2007-11-27 15:49:00 | 显示全部楼层
参考
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发表于 2007-11-29 19:47:00 | 显示全部楼层
kingsun
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发表于 2007-12-23 22:57:00 | 显示全部楼层
QUOTE:
以下是引用xiaoxiaojia在2007-3-14 16:48:00的发言:

没有切到直径在理论上说会有很大的影响(主要看你切的平面与直径所在的平面距离有多少了)。例如:一个孔打磨后孔壁呈现V型,上下的厚度量一下会发现差别很大。你用CAD软件去模拟一下也会明白的。

影响是挺大,但是只要不差太多还好了。不要太离谱 ,孔口成V形了 就不可以了!

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发表于 2007-12-23 23:00:00 | 显示全部楼层
QUOTE:
以下是引用yongtaigang在2007-10-24 16:43:00的发言:
CMI能做到切片那么准确吗?DOE是什么?

因为高纵横比孔孔铜分布为孔口附近厚,孔中薄,若实验目的为考察深镀能力那就不可以用CMI量测了,这个不准!

DOE就是实验参数配置,通过doe测试来抓取最佳参数,看结果是“望大”还是“望小”来选择最佳参数!

[em01]
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发表于 2007-12-29 10:06:00 | 显示全部楼层
一楼不见了,什么问题?
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发表于 2007-12-29 13:29:00 | 显示全部楼层
可否有案例,本人对DOE有少许了解。
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发表于 2008-1-4 06:37:00 | 显示全部楼层
[em01]
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发表于 2008-1-21 16:10:00 | 显示全部楼层
dddddd
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发表于 2008-1-28 09:11:00 | 显示全部楼层
kkkkkkkkkkkkkkk
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发表于 2008-1-28 10:22:00 | 显示全部楼层

这个版块怎么那么冷清呢?大家都说些有意义的,别都是符号。

我先来吧,请问做切片的时候如何能保证磨的正好到正中间呢 ?谢谢。

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