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发表于 2003-5-5 00:39:00
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现场解决工具的初始结果可能会遇到两种问题。首先是视野受到限制的问题,现场解决工具只对附近走线的影响做分析,而不考虑影响阻抗的其它层上的非平行走线。现场解决工具在布线前,即分配走线宽度时无法知道细节,但上述成对安排的方法可使这个问题变得最小。
值得一提的是不完全电源层(partial power planes)的影响。外层电路板上在布线后经常挤满了接地铜线,这样就有利于抑制EMI和平衡涂敷(balance plating)。如果只对外层采取这样的措施,则本文所推荐的叠层结构对特性阻抗的影响非常微小。
大量采用相邻信号层的效果是非常显著的。某些些现场解决工具不能发现铜箔的存在,因为它只能检查印制线和整个层面,所以对阻抗的分析结果是不正确的。当邻近的层上有金属时,它就象一个不太可靠的地线层一样。如果阻抗过低,瞬时电流就会很大,这是一个实际而且敏感的EMI问题。
导致阻抗分析工具失败的另一个原因是分布式电容。这些分析工具一般不能反映引脚和过孔的影响(这种影响通常用仿真器来进行分析)。这种影响可能会很大,特别是在背板上。其原因非常简单:
特性阻抗通常可用下述公式计算:
√L/C
其中,L和C分别是单位长度的电感和电容。
如果引脚是均匀排布的,附加的电容将大大影响这个计算结果。公式将变成:
√L/(C+C‘)
C‘是单位长度的引脚电容。
如果象在背板上那样连接器之间用直线相连,就可用总线路电容以及除了第一和最后一个引脚之外的总引脚电容。这样,有效阻抗就就会降低,甚至可能从80Ω降到8Ω。为了求得有效值,需将原阻抗值除以:
√(1+C‘/C)
这种计算对于元件选择是很重要的。
延迟
模拟时,应该考虑元件和封装的电容(有时还应包括电感)。要注意两个问题。首先,仿真器可能不能正确模拟分布式电容;其次,还要注意不同生产情况对不完全层面和非平行走线的影响。许多现场解决工具都不能分析没有全电源或地线层的叠层分布。然而,如果与信号层相邻的是一个地线层,那么计算出的延迟会相当糟糕,比如电容,会有最大的延迟;如果一个双面板的两层都布有许多地线和VCC铜箔,这种情况就更严重。如果过程不是自动化的话,在一个CAD系统中设置这些东西将会是很繁乱的。 |
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