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发表于 2010-7-5 10:57:21
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文件名:生产制作能力参数 第3页共10页 版本号:
18 总制程能力 可靠性测试 绝缘层厚度(最小)不含HDI板 mm 最小3MIL(限HOZ底铜),基铜2OZ以上介质需按6MIL以上控制,4层板次表层介质最大22MIL,其它介质最大14MIL,超过需做光板处理,芯板厚度≤0.2MM,介质需控制在6MIL以下,光板添加需钻3.25MM的定位孔
19 阻抗公差 % ±10%(极限<±10%直接取消制作)
20 板材类型 板料类型 高Tg板材类型 / S1000-2或IT180,其他高TG需要评审
21 阻抗控制板板材类型 其他要评审 FR-4,FR-4高Tg,系列
22 RCC材料 需要评审 铜箔12UM,树脂65um(对应0.1MM盲孔)80,100um(对应0.15MM盲孔)
23 半固化片类型 FR-4半固化片 / 106(2.6mil)、1080(2.8-3.0mil)、3313(3.5-3.8mil)、 2116(4.0-4.2mil)、1506(5.0-5.6mil)、7628(6.8-7.2mil)
24 铜箔类型 铜箔 um 12、18、35、70(大于70需要评审)
25 内光成像 设备能力 内、外层线路磨板机 / 0.11-3.2mm,min 9*9inch,板厚≤0.2mm开料后需烘板TG值/2H
26 内光成像制程能力 贴膜机、曝光机 / 0.11-4.0mm,min 8*8in,max 24*24in
27 蚀刻线 / 0.11-4.0mm,min 7*7inch
28 内层最小导线宽度(18um基铜,补偿前) mil 4(无需补偿)(3.5-3.9MIL需评审,小于3.5mil直接取消制作)
29 内层最小导线间距(18um基铜,补偿后) mil 3.5
30 内层最小导线宽度(35um基铜,补偿前) mil 4.0,评审和取消界定同上
31 内层最小导线间距(35um基铜,补偿后) mil 3.5(补偿0.5mil)
32 内层最小导线宽度(70um基铜,补偿前) mil 8(基铜≥2OZ需做正片制作,只镀锡不镀铜),
33 内层最小导线间距(70um基铜,补偿后) mil 5(补偿最小3MIL,超出需评审)
34 内层最小导线宽度(105um基铜,补偿前) mil 10,开料后,层压后需烘板用TG值/2H
35 内层最小导线间距(105um基铜,补偿后) mil 8(最小补偿6MIL,超出需评审) |
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