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提一个关于化学镍金ENIG有关铜上面的镀层厚度的问题。

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发表于 2011-5-11 10:40:02 | 显示全部楼层 |阅读模式
在标准IPC-6012的“表3-12”中提到,最小铜镀层(Min Cu Plating)厚度为20微米(3级品是25微米),此厚度不包含原来的铜箔(Absolute Cu )厚度。而在标准IPC-4552中规定,镀镍层(electroless nickel)厚度为3-6微米,沉金层(immersion gold)厚度为0.075-0.125微米,二者之合的最大值也不过6.125微米,无法达到IPC-6012中的最小铜镀层厚度。谁能解释其中的原理吗?化学镍金最后的镀层厚度(除原始铜箔厚度外)不只是有镍层厚度和沉金厚度吧?还包含其他金属层吗?厚度是多少?
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发表于 2011-5-14 10:35:22 | 显示全部楼层
最小铜镀层(Min Cu Plating)厚度为20微米(3级品是25微米),
-------这个是对孔铜的要求!!
对于ENIG工艺来讲,满足最低NI 和 AU厚度要求,是为了满足SMT的焊接要求,此时铜厚度依然符合客规。

对于电镀镍金来讲,一般情况下最低铜厚满足15微米就可以了,除非客户有特殊规定。镍金厚度符合IPC标准
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