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HDIL(4+2+4)有D47层埋孔,埋孔上有D15的镭射叠孔(VIP)设计,工艺流程怎么走?

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发表于 2015-11-1 09:41:38 | 显示全部楼层 |阅读模式
求大神指教?
HDIL(4+2+4)有D47层埋孔,埋孔上有D15的镭射叠孔(VIP)设计,工艺流程怎么走?
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发表于 2015-11-1 21:31:43 | 显示全部楼层
這種完全不用設計埋孔,用任意層,雷射孔疊雷射孔即可。

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客户就是要这种有埋孔的设计哦!  详情 回复 发表于 2015-11-7 14:00
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 楼主| 发表于 2015-11-7 14:00:12 | 显示全部楼层
hdirobert 发表于 2015-11-1 21:31
這種完全不用設計埋孔,用任意層,雷射孔疊雷射孔即可。

客户就是要这种有埋孔的设计哦!
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发表于 2015-11-7 14:31:26 | 显示全部楼层
內層L56→壓合L47→47內埋鉆孔(如有45丶67雷射先作DLD雷鉆)/鍍47埋孔→L47線路→壓合L36→逐次增層

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埋孔需要电镀填平哦,  详情 回复 发表于 2015-11-11 23:00
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 楼主| 发表于 2015-11-11 23:00:18 | 显示全部楼层
hdirobert 发表于 2015-11-7 14:31
內層L56→壓合L47→47內埋鉆孔(如有45丶67雷射先作DLD雷鉆)/鍍47埋孔→L47線路→壓合L36→逐次增層

埋孔需要电镀填平哦,
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发表于 2015-11-12 07:07:52 | 显示全部楼层
kan_pcb 发表于 2015-11-11 23:00
埋孔需要电镀填平哦,

電鍍填平,那你就想多了,業界都研發中,未有量產,增加電鍍L47再零漏失樹塞Capping鍍銅,這我還有量產技術。
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 楼主| 发表于 2015-11-12 23:04:25 | 显示全部楼层
hdirobert 发表于 2015-11-12 07:07
電鍍填平,那你就想多了,業界都研發中,未有量產,增加電鍍L47再零漏失樹塞Capping鍍銅,這我還有量產技 ...

这不都是有dimple控制要求的吗,也不是绝对填平的吧
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发表于 2015-11-13 06:07:10 | 显示全部楼层
kan_pcb 发表于 2015-11-12 23:04
这不都是有dimple控制要求的吗,也不是绝对填平的吧

內埋孔要電鍍上蓋,就有其設計目的,上面有機率設計再站Laser via,
不100%平,不平孔上面有雷射via,必有信賴度問題。

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那这样直接做D1-10的外场层VIPPO设计不就可以了吗?生产流程岂不更简单。。。反正都是会连通 这样对PCB的原始设计会产生什么影响吗?  详情 回复 发表于 2015-11-14 11:07
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 楼主| 发表于 2015-11-14 11:07:20 | 显示全部楼层
hdirobert 发表于 2015-11-13 06:07
內埋孔要電鍍上蓋,就有其設計目的,上面有機率設計再站Laser via,
不100%平,不平孔上面有雷射via,必 ...

那这样直接做D1-10的外场层VIPPO设计不就可以了吗?生产流程岂不更简单。。。反正都是会连通
这样对PCB的原始设计会产生什么影响吗?
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发表于 2015-11-14 14:06:01 | 显示全部楼层
kan_pcb 发表于 2015-11-14 11:07
那这样直接做D1-10的外场层VIPPO设计不就可以了吗?生产流程岂不更简单。。。反正都是会连通
这样对PCB ...

這個是因為大家都想做任意層結構產品,又沒投資最初始層2mil薄Core的相關設備,沒有辦法穩定做超薄核心層,才設計出此變型結構,利用內埋通孔Capping鍍銅蓋,犧牲一些產品厚度,能有類似的功能,殊不知零缺失不凹陷內埋塞孔也是一項信賴度工藝~
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