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部分铜电的价格大约比全面铜电的贵15%

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发表于 2004-7-8 23:55:44 | 显示全部楼层 |阅读模式
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发表于 2004-7-9 21:29:06 | 显示全部楼层
更难控制
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发表于 2004-7-10 06:49:10 | 显示全部楼层

整板镀铜和部分镀铜的价格差异有如下原因:

首先是工艺流程上的差异,导致成本不同。整板镀铜比较简单:下料,NC钻孔,黑孔,镀铜,清洗干燥;部分镀铜:下料,NC钻孔,黑孔,贴感光干膜,曝光,显影,镀铜,剥膜,清洗干燥。从以上流程可以看到,部分镀铜需要使用干膜,底片等物料,还要经过压膜,曝光,显影,剥膜等工序,占用设备,消耗工时和药水,成本肯定要增加

其次,由于工艺差异导致部分镀铜的良率差异,由于部分镀铜工艺步骤多,一般良率较整板镀铜良率低一些。

由于以上原因,导致两种镀铜方式成本上的差异。

就应用面而言,一般部分镀铜使用与对弯折性能要求比较高的多层分层板,如果是整板镀,将使弯折性能下降;而整板镀适用于对弯折性能要求不高的普通双面板。

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发表于 2004-7-10 09:06:53 | 显示全部楼层
嗯,楼上的解释的非常清楚。您在哪高就?
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发表于 2004-7-11 20:57:03 | 显示全部楼层
整板镀铜流程同样需要用到干膜(Dry film)及底片(Artwork)来形成线路,只不过压完膜,曝完光后,DES(显影、蚀刻、褪膜)一线搞定;而部分铜工艺只是在做完黑影/黑孔后选择性地在所需要镀上铜的地方进行电镀制程,这样在贴膜、曝光、显影后,不直接进入蚀刻流程,而是进入pattern Plating(图形电镀)镀上所需厚度的铜后再褪膜,之后再进行线路制造,实际上多了一道干膜制程,所以Running cost一定要高。不过现在对FPC的挠折性要求高的客户都要求制造商采用部分铜工艺。
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 楼主| 发表于 2004-7-11 21:24:25 | 显示全部楼层

DES(显影、蚀刻、褪膜)一线搞定??

请教这个流程是什么样子的?怎么实现啊??

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发表于 2004-7-12 07:00:01 | 显示全部楼层

所谓DES是把线路形成过程中的显影,蚀刻,剥膜三个工序放在一条生产线上进行。

各家公司在理念上可能有所不同,我认为这是典型的软板硬做的表现。如果把这三个工序放在一条线上,这条的长度将超过35米,当然国内做的一些简化的线长度可能要短一些,但是也要超过20米长,这对软板的传动将是一个非常难以控制和把握的。我以前使用的日本的ROLL TO ROLL的设备,把显影和蚀刻剥膜是分开作为两条线,蚀刻剥膜线长27米,显影线9米。在设备运行了6年以后,蚀刻剥膜线的控制就比较困难,板的平行度比较差,容易跑偏,造成张力不均匀。

因此我在自己采购设备的时候,有些设备供应商竭力向我推荐DES线的时候,我坚决反对,要求要把显影,蚀刻,剥膜分开,这样设备价格可能高一些,但是容易控制。

此外,现在在做多层板和图形镀的时候,需要分别使用显影,蚀刻和剥膜,三条线做在一起也不合理。

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