hdirobert 发表于 2010-4-22 21:10:00

HDI雷射孔的检测,业界有许多方式,有的雷射钻孔完,使用雷射孔AOI检测,有的用高倍目镜检测,大厂以孔AOI居多,但是,我认为,雷射的成孔,基本上要控制制程设计的信赖度,制程设计正确,孔底就该没有胶渣残存,因为,雷射孔数太多了,一个孔失效,就等同1pcs板子失效,要雷射激光的稳定度,还有均匀稳定的除胶渣设备;高价格的检测机,也只代表它能检出不良,如果流程正确,就无用武之地了,一般的人工高倍目镜抽检也就足够了。

hdirobert 发表于 2010-4-23 15:15:00

<p>HDI产品,有一种特殊异常,内层铜面棕化上不去,这问题很有趣;一般直觉是铜面上有异物污染...,实际上有许多专用名词,什么葡萄串现象等,不定时的发生一些小量,压合附着力差会起泡爆板,怎么查找都找不到真因,忽尔忽尔下一批又没有;注意抗氧化剂的使用、电镀的厚度配比,就讲到这ㄦ。</p>

hdirobert 发表于 2010-4-24 11:51:00

HDI层间对位,是影响良率的绝对因素,因为电测时总有一项内O/S无法排除;至于各层线路的影像制程良率,AOI就有数据可以呈现,而且外观就看的出来,也容易改善;但是层间对位,就牵扯到对位孔的使用系统、曝光机型式、雷射作业的模式、压合打靶的模式;各制程间都会有跨越三个制程以上的交互影响;一般必须有对全制程设备作动原理熟析的产品工程人员,才能架构出,适合该厂的总体系统;;;;我先提一个,CCD曝光机是一台很笨的机器,电脑逻辑判定的,假如设定PE值50um,最差的时候,底片尺寸不甚合用时,很多次对位,一个角落 49.9999um它都照常曝过&gt;&gt;&gt;

hdirobert 发表于 2010-4-26 16:33:00

<p>曝光设备的制程控制的对准度是影响层间对准度最大的因子,这一论点或许很多同业有不同认知;压合钻靶机定距线补偿、面补偿、还是mark中心,钻孔上PIN系统,2PIN钻孔作业,还是3PIN、4PIN;雷射对位靶的模式对孔还是对内层影像;线路影像曝光对位孔的选定,都会影响层间偏移的程度;制程间如何将串联堆积木的过程,使积木愈堆愈高过程中堆的稳定;产品组要好好的着墨研究。</p>

lethk 发表于 2010-4-28 12:04:00

学习交流

hdirobert 发表于 2010-4-28 17:47:00

HDI有一项客户规格,可以善加利用,就是埋孔层如果没有同时相应同一层次的雷射孔,一阶HDI常见,制程设计上多加利用此规格,把制程尺寸统合起来,可以使HDI尺寸管控<strong>简化许多</strong>,良率影响很少,因为这样的埋孔层已经在此层次切分开来,和外层雷射和外层机钻准度无多大的关连,看得懂得,就进入门槛吧。尺寸分批太多太乱是HDI量产最大的难处。

hdirobert 发表于 2010-5-1 21:29:58

這一陣子,HDI產能大瓶頸,因為3G手機、觸屏設計的產品在大中國區直躍而上,筆電CULV也因為功能性的強化,漸為使用者接受,然而,HDI大廠未有大產能後起之秀起來,原HDI一線大廠急購設備,增加產能,相信hdi榮景2-3年都還有極佳的成長空間。

zxw19801999 发表于 2010-5-1 22:44:40

回复 6# hdirobert


    但是涨缩控制的最后是防焊出底片,对底片的系数和保管条件要注意,否则一个料号要出好几套底片

zxw19801999 发表于 2010-5-1 23:03:12

HDI产品设计上还是统一点,19/24,21/24,20/24,还是比较好的,省人力,便于产品的提高。

zxw19801999 发表于 2010-5-1 23:11:04

回复 62# hdirobert


    完全棕化不上多多发生在HDI产品的次内层棕化时,多原因为是自家电镀的一层容易发生。楼上说的很好,控制氧化剂的使用是一方面,另一方面也要注意棕化线的碱洗是否干净,棕化药水的比例,等
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